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▶痕量HF和HCl检测
▶微量NH3、NO、NO2、CO、CO2、SO2、SF6分析
▶痕量HF和HCl检测
简 介
HF用于提纯铝和铀,也用来蚀刻玻璃;半导体工业中,使用它来除去硅表面的氧化物;在炼油厂,它可用作异丁烷和丁烷的烷基化反应的催化剂;除去不锈钢表面含氧杂质的“浸酸”过程也会用到HF。HF还用于多种含氟有机物的合成,如Teflon、氟利昂类致冷剂等。
HCl是重要的无机化工原料,广泛用于染料、医药、食品、印染、皮革、冶金等行业。
HF和HCl均具腐蚀性和毒性,威胁作业场所人员职业安全健康(OSH),也影响生产安全,已引起职业安全健康和安全生产监管部门重视。
迄今,分析检测痕量HF和HCl,较成熟的技术是光声光谱(PAS)气体分析技术或离子迁移谱(IMS)技术,检出限为ppb级或更低。
用户价值
1)高可靠性。已经验证能测量HF和HCl的技术,短光路,抗干扰。
2)高灵敏性。可以分析低ppb级的痕量组分。
3)线性度好。线性范围为105。
4)易于操作。一键式操作,友好的人机界面。
5)便于搬运。仪器可方便地搬运,实现现场快速检测。
6)减少校准。只需校准零点和另一个浓度点,建议6个月一次。
7)省却麻烦。无需每天都校准零点。
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▶微量NH3、NO、NO2、CO、CO2、SO2、SF6分析
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